Den europäischen Wandel meistern: N-Methyl-2-pyrrolidon in Photoresist-Stripping-Anwendungen
In der sich rasant entwickelnden Halbleiterfertigung gerät die Rolle von Lösungsmitteln wie N-Methyl-2-pyrrolidon (NMP) in Fotolack-Stripping-Prozessen zunehmend in den Fokus, insbesondere auf dem europäischen Markt. Angesichts verschärfter Umweltauflagen und der steigenden Nachfrage nach nachhaltigen Fertigungsverfahren überdenken die Beteiligten den Einsatz traditioneller Lösungsmittel und suchen nach sichereren, konformeren Alternativen.
2025-05
2025-05-19